FIB-SEM-Ar(Xe) Dual & Triple beam Hitachi ETHOS NX5000

Sistem FIB-SEM Triple Beam cu fascicule de Galiu si Argon sau Xenon pentru pregatire probe TEM

Hitachi Ethos NX5000 încorporează Cold FE-SEM de ultimă generație cu nivel ridicat de  luminozitate și stabilitate a fasciculului. Ethos oferă imagini de înaltă rezoluție la tensiuni joase combinate cu optica ionică pentru procesare de precizie la scară nanometrică.

Caracteristici de bază:

1. Coloană FE-SEM de înaltă performanță cu Dual Lens Mode
  • Observație cu rezoluție ultra-înaltă (mod HR: semi-in lens)
  • Detectare de înaltă precizie a punctului final în timp real (mod FF: Field Free (time sharing mode))
2. Procesarea materialelor cu randament ridicat
  • Procesare ultra-rapidă cu densitate mare a curentului ionic (curent max. fascicul: 100 nA)
  • Script programabil de utilizator pentru procesare și observare automată
3. Sistem de microeșantionare
  • Control complet integrat al orientării probei pentru reducerea efectului de perdea (tehnologia ACE – Anti-Curtaining)
  • Pregătirea probei TEM pentru lamele uniforme în orice orientare
4. Echipat cu triplu fascicul, oferă rezultate de calitate avansata
  • Procesarea materialelor cu fascicule de ioni cu gaz nobil cu accelerație scăzută
  • Funcțiile inovatoare reduc artefactele cauzate de ionii de Ga și alte artefacte de măcinare/polishare
5. Cameră mare cu mai multe porturi și suport probă pentru diverse aplicații
  • Sistem capabil sa prelucreze eșantioane de dimensiuni mari, cu stabilitate excepțională a stage-ului
  • Procesare probă pe suprafețe mari (155 x 155mm)
6. Time-Sharing
.
.

Link Producator