FIB-SEM-Ar(Xe) Dual & Triple beam Hitachi ETHOS NX5000
Sistem FIB-SEM Triple Beam cu fascicule de Galiu si Argon sau Xenon pentru pregatire probe TEM
- Soluții adaptate
- Parteneri de prestigiu
- Expertiză tehnică și științifică
Hitachi Ethos NX5000 încorporează Cold FE-SEM de ultimă generație cu nivel ridicat de luminozitate și stabilitate a fasciculului. Ethos oferă imagini de înaltă rezoluție la tensiuni joase combinate cu optica ionică pentru procesare de precizie la scară nanometrică.
Caracteristici de bază:
1. Coloană FE-SEM de înaltă performanță cu Dual Lens Mode
- Observație cu rezoluție ultra-înaltă (mod HR: semi-in lens)
- Detectare de înaltă precizie a punctului final în timp real (mod FF: Field Free (time sharing mode))
2. Procesarea materialelor cu randament ridicat
- Procesare ultra-rapidă cu densitate mare a curentului ionic (curent max. fascicul: 100 nA)
- Script programabil de utilizator pentru procesare și observare automată
3. Sistem de microeșantionare
- Control complet integrat al orientării probei pentru reducerea efectului de perdea (tehnologia ACE – Anti-Curtaining)
- Pregătirea probei TEM pentru lamele uniforme în orice orientare
4. Echipat cu triplu fascicul, oferă rezultate de calitate avansata
- Procesarea materialelor cu fascicule de ioni cu gaz nobil cu accelerație scăzută
- Funcțiile inovatoare reduc artefactele cauzate de ionii de Ga și alte artefacte de măcinare/polishare
5. Cameră mare cu mai multe porturi și suport probă pentru diverse aplicații
- Sistem capabil sa prelucreze eșantioane de dimensiuni mari, cu stabilitate excepțională a stage-ului
- Procesare probă pe suprafețe mari (155 x 155mm)
6. Time-Sharing
.
.
Produse similare
-
FIB - Dual and Triple Focused Ion Beam
FIB-SEM-Ar(Xe) Dual & Triple beam Hitachi NX2000
Citește mai mult -
FIB - Dual and Triple Focused Ion Beam
FIB-SEM Analitic Real-Time 3D Hitachi NX9000
Citește mai mult